· 累计主持/参与科研项目约20项(累计经费接近人民币1亿元:
· 国家级重大项目(2009):嵌入式多模多频收发机硬核(Hard IP)研发。
· 国家科技重大专项(2009):65/45/32 nm工艺研发与产业化相关任务。
· 科技部创新基金(2014):标准CMOS工艺UHF电子标签芯片。
· 江苏省科技支撑计划:标准CMOS工艺UHF电子标签芯片研发。
· 江苏省产业转型项目(2017):新一代UHF标签研发与产业化。
· 江苏省自然科学基金(2018):NFC芯片性能与物联网应用。
· 江苏省前沿技术项目(2024):存算一体视觉处理芯片关键技术。
· 论文:共发表学术论文约52篇(约30篇期刊、22篇会议)。
· 专利与知识产权:已获授权发明专利80+(含美国专利10项、中国发明专利76项),并拥有多项布图设计与软件著作权。
· 产业化:主导近20颗集成电路芯片研发与产业化;累计出货量超过2000亿颗,企业累计营收超过10亿元人民币。
· 平台建设:建设1个国家级与多个省级研发平台/工程中心。
代表性论文(节选):
· Bin Wang; J. S. Suehle; E. M. Vogel; J. B. Bernstein, “Time-Dependent Breakdown of Ultra-Thin SiO₂ Gate Dielectrics Under Pulsed Biased Stress,” IEEE Electron Device Letters, 2001.
· J. S. Suehle; E. M. Vogel; P. Roitman; B. Wang; J. B. Bernstein, “Observation of Latent Reliability Degradation in Ultra-Thin Oxides After Heavy-Ion Irradiation,” Applied Physics Letters, 2002.
· Yanjun Ma; T. Gilliland; Bin Wang; …, “Reliability of pFET EEPROM with 70 Å Tunnel Oxide Manufactured in Generic Logic CMOS Processes,” IEEE Transactions on Device and Materials Reliability, 2004.
· B. Wang; Y. Ma; R. Paulson; C. Diorio; T. Humes, “Measurement of Ultra-Low Gate Tunneling Currents Using Floating-Gate Integrator Technique,” IEEE Electron Device Letters, 2005.
· Bin Wang; Hoc Nguyen; Yanjun Ma; R. Paulsen, “Highly Reliable 90nm Logic Multi-time Programmable NVM Cells Using Novel Work-Function Engineered Tunneling Devices,” IEEE Transactions on Electron Devices, 2007.
· Yanjun Ma; Rui Deng; H. Nguyen; Bin Wang; …, “Floating-Gate Nonvolatile Memory With Ultra-Thin 5-nm Tunnel Oxide,” IEEE Transactions on Electron Devices, 2008.
· M. Li; Y. Guo; H. Lin; B. Wang, “Capacitance-Voltage Characteristics of Symmetric Stacked Bonding Structure in 3D Integration,” ECS Transactions, 2014.
· Hai Peng Zhang; Qiang Zhang; Mi Lin; Bin Wang, “A GaN/InGaN/AlGaN MQW RTD for versatile MVL applications with improved logic stability,” Journal of Semiconductors, 2018.